碳分子篩變壓吸附(簡(jiǎn)稱(chēng):PSA)制氮裝置，是一種新型的空氣分離的高新技術(shù)設備，以壓縮空氣為原料，碳分子篩為吸
附劑，采用變壓吸附流程制取氮氣。在常溫常壓下，利用空氣中的氧和氮在碳分子篩表面的吸附量的差異及氧和氮在碳
分子篩中的擴散速率不同,通過(guò)可編程序控制器控制氣動(dòng)閥的啟閉，實(shí)現加壓吸附、減壓脫附的過(guò)程，完成氧、氮分離，
得到所需純度氮氣，氮氣的純度和產(chǎn)氣量可按照客戶(hù)要求調節。本公司生產(chǎn)的DFD系列普氮型制氮裝置，氮氣純度為
95%--99.999%，產(chǎn)氣量為1Nm3 /h--3000Nm3 /h。
如果客戶(hù)要求高純度的氮氣，則可以在DFD制氮裝置后面配套我公司生產(chǎn)的DFD系列氮氣純化裝置，純度可以達到99.9999%，露點(diǎn)達到-70°C，氧含量為2ppm的高純氮氣。
PSA制氮機的特點(diǎn)
、成本低：PSA先進(jìn)工藝是一種簡(jiǎn)便的制氮方法，開(kāi)機后幾分鐘產(chǎn)生氮氣，能耗低，氮氣成本遠遠低于深冷法空分制氮和市場(chǎng)上的液氮。
2、性能可靠：進(jìn)口微電腦控制，全自動(dòng)操作，無(wú)需要特別訓練的操作人員，只需按下啟動(dòng)開(kāi)關(guān)，就可自動(dòng)運轉，達到連續供氣。
3、氮氣純度穩定：完全由儀表監控、顯示，確保所需氮氣純度。
4、選用優(yōu)質(zhì)進(jìn)口分子篩：具有吸附容量大，抗壓性能強，使用壽命長(cháng)等特點(diǎn)。
5、高品質(zhì)的控制閥門(mén)：優(yōu)質(zhì)的進(jìn)口專(zhuān)用管道式氣動(dòng)閥門(mén)可以保證制氮設備可靠地運轉。
6、雄厚的技術(shù)力量和優(yōu)良的售后服務(wù)：現場(chǎng)安裝只需管道和電源，專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員指導和定期回訪(fǎng)，從而保證設備穩定可靠、長(cháng)期運行。

PSA制氮機的應用領(lǐng)域
一．SMT行業(yè)應用
　　充氮回流焊及波峰焊，用氮氣可有效抑止焊錫的氧化,提高焊接潤濕性，加快潤濕速度減少錫球的產(chǎn)生，避免橋接，減少焊接缺陷，得到較好的焊接質(zhì)量。使用氮氣純度大于99.99或99.9%。
　　二．半導體硅行業(yè)應用
　　半導體和集成電路制造過(guò)程的氣氛保護，清洗，化學(xué)品回收等。
　　三．半導體封裝行業(yè)應用
　　用氮氣封裝、燒結、退火、還原、儲存。維通變壓吸附制氮機協(xié)助業(yè)類(lèi)各大廠(chǎng)家在競爭中贏(yíng)得先機，實(shí)現了有效的價(jià)值提升。
　　四．電子元器件行業(yè)應用
　　用氮氣選擇性焊接、吹掃和封裝�？茖W(xué)的氮氣惰性保護已經(jīng)被證明是成功生產(chǎn)高品質(zhì)電子元器件一個(gè)必不可少的重要環(huán)節。
　　五．化工、新材料行業(yè)行業(yè)應用
　　用氮氣在化工工藝中創(chuàng )建無(wú)氧氣氛，提高生產(chǎn)工藝的安全性，流體輸送動(dòng)力源等。石油： 可應用于系統中管道容器等的氮氣吹掃，儲罐充氮、置換、檢漏，可燃性氣體保護，也應用于柴油加氫和催化重整。
　　六．粉末冶金，金屬加工行業(yè)，熱處理行業(yè)應用
　　鋼、鐵、銅、鋁制品退火、炭化，高溫爐窯保護，金屬部件的低溫裝配和等離子切割等。
　　七.食品、醫藥行業(yè)行業(yè)應用
　　主要應用于食品包裝、食品保鮮、食品儲存、食品干燥和滅菌、醫藥包裝、醫藥置換氣、醫藥輸送氣氛等。
　　八. 其他使用領(lǐng)域
　　制氮機除了使用在以上行業(yè)以外，在煤礦、注塑、釬焊、輪胎充氮橡、橡膠硫化等眾多領(lǐng)域也得到廣泛使用。隨著(zhù)科技的進(jìn)步和社會(huì )的發(fā)展，氮氣裝置的使用領(lǐng)域也越來(lái)越廣泛，現場(chǎng)制氣（制氮機）以其投資省、使用成本低、使用方便等優(yōu)點(diǎn)已經(jīng)逐漸取代液氮蒸發(fā)、瓶裝氮氣等傳統供氮方式。

PSA制氮機的工藝流程圖


工藝流程原理
變壓吸附的原理是在吸附平衡情況下，任何一種吸附劑在吸附同一氣體時(shí)，氣體壓力越高，則吸附量越大，反之，壓力越低，則吸附量越小。PSA制氮設備的核心部分是碳分子篩，在空氣壓力升高時(shí)，碳分子篩將大量吸附氧氣、二氧化碳和水分，當壓力降到常壓時(shí)，碳分子篩對氧氣、二氧化碳和水分的吸附量非常小。

制氮裝置的技術(shù)指標：
流量1-4500Nm3 /h，
純度95%-99.9999%，
壓力≤1.0MPa，
露點(diǎn)≤-40℃；