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北京中金研新材料科技有限公司

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  • 主營(yíng)行業(yè): 有色金屬粉末
  • 經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)型
  • 經(jīng)營(yíng)性質(zhì):國有企業(yè)
  • 地區:北京
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供求信息

大面積鍍膜濺射靶材供應商

產(chǎn)品型號:

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發(fā)布時(shí)間:2018-9-3 16:22:59

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產(chǎn)品詳情:
  

北京中金研新材料科技有限公司(CNM)是坐落于中關(guān)村科技園區的國家高新技術(shù)企業(yè),由業(yè)內龍頭企業(yè)為發(fā)起人,整合了國內科研院校的優(yōu)勢資源,吸收國內外先進(jìn)科學(xué)的管理經(jīng)驗而成立。人才儲備豐富,資金力量雄厚,通過(guò)ISO9001:2008質(zhì)量體系及ISO14001:2004環(huán)境管理體系認證,具有自主進(jìn)出口權。


北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應用技術(shù)研究開(kāi)發(fā)方面,有著(zhù)得天獨厚的優(yōu)勢。以堅強的技術(shù)為基礎,我公司開(kāi)發(fā)了多個(gè)系列的新材料,這些產(chǎn)品牌號約百余種。已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫藥、新能源等行業(yè)獲得廣泛應用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產(chǎn)線(xiàn),生產(chǎn)設備先進(jìn),工藝完善。


目前,我們的客戶(hù)遍及美國.德國.日本.韓國.臺灣.香港等十幾個(gè)國家和地區,包括國內外科研軍工,上市公司等知名企事業(yè)在內的六百余家單位。


北京中金研新材料科技有限公司下設鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業(yè)部,熱烈歡迎新老客戶(hù)垂詢(xún)。我公司秉承以誠信為本,科技為本的理念,致力打造成金屬新材料行業(yè)的領(lǐng)頭羊。




磁控濺射靶材


(可為電子與半導體,平面顯示行業(yè),建筑與汽車(chē)玻璃行業(yè),薄膜太陽(yáng)能電池行業(yè),磁存儲行業(yè),工具行業(yè),裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材)


高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-6N):鋁靶Al,鉻靶Cr,銅靶Cu,鎳靶Ni,硅靶Si,鍺靶Ge,鈮靶Nb,鈦鈀Ti,銦靶In,銀靶Ag,錫靶Sn,石墨靶C,鉭靶Ta,鉬靶Mo,金靶Au,鉿靶Hf,錳靶Mn,鋯靶Zr,鎂靶Mg,鋅靶Zn,鉛靶Pb,銥靶Ir,釔靶Y,鈰靶Ce,鑭靶La,鐿靶Yb,釓靶Gd,鉑靶Pt等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。


高密度陶瓷濺射靶材(3N-5N):ITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化鎂靶MgO、氧化釔靶Y2O3,氧化鐵靶Fe2O3,氧化鎳靶Ni2O3,氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鎘靶CdS,硫化鉬靶MoS2,二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化鋯靶ZrO2、五氧化二鈮靶Nb2O5、二氧化鈦靶TiO2,二氧化鉿靶HfO2,二硼化鈦靶TiB2,二硼化鋯靶ZrB2,三氧化鎢靶WO3,三氧化二鋁靶Al2O3,五氧化二鉭靶Ta2O5、氟化鎂靶MgF2、硒化鋅靶ZnSe、氮化鋁靶AlN,氮化硅靶Si3N4,氮化硼靶BN,氮化鈦靶TiN,碳化硅靶SiC,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.


備注:CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界*先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術(shù),相對密度大于95-99%?梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ⻊(wù)。


高純合金濺射靶材:鎳釩合金靶Ni-V,鎳鉻合金靶Ni-Cr,鈦鋁合金靶Ti-Al,硅鋁合金靶Si-Al,銅銦合金靶Cu-In,銅鎵合金靶Cu-Ga,銅銦鎵合金靶Cu-In –Ga,銅銦鎵硒靶Cu-In –Ga-Se,不銹鋼靶,鋅鋁合金靶Zn-Al,鎢鈦 W-Ti,鐵鈷 Fe-Co,白銅靶等高純合金濺射靶材。


備注:CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材:晶粒度小150-60um,相對密度高(99-99.9%),純度高(99.9-99.999%)?梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ⻊(wù)。




真空鍍膜材料


(鍍制:復合膜,彩色膜,增透膜,透紫外膜,氣敏傳感器膜,高溫介質(zhì)膜,光學(xué)膜,激光裝置濾光片,保護膜,透明導電膜,變色膜,優(yōu)良的寬帶增透膜,磁性薄膜,可見(jiàn)光區增透膜,紅外增透膜,分光膜,多層膜,高反射膜,電阻膜,熱反射膜,冷光膜膜)


高品質(zhì)真空鍍膜材料(4N-5N):


1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3等高純氧化物鍍膜材料。


2.氟化物:氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2,氟化鈰CeF3,氟化鎂MgF2,氟化鑭LaF3,氟化釔YF3,氟化鐿YbF3,氟化鉺ErF3等高純氟化物。


3.其它化合物:硫化鋅ZnS,硒化鋅ZnSe,氮化鈦TiN,碳化硅SiC,鈦酸鑭LaTiO3,鈦酸鋇BaTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鐠PrTiO3,硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。


4.金屬鍍膜材料:高純鋁Al,高純銅Cu,高純鈦Ti,高純硅Si,高純金Au,高純銀Ag,高純銦In,高純鎂Mg,高純鋅Zn,高純鉑Pt,高純鍺Ge,高純鎳Ni,高純金Au,金鍺合金AuGe,金鎳合金AuNi,鎳鉻合金NiCr,鈦鋁合金TiAl,銅銦鎵合金CuInGa,銅銦鎵硒合金CuInGaSe,鋅鋁合金ZnAl,鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。


備注:CNM生產(chǎn)的真空鍍膜材料均通過(guò)SGS認證,純度高,濺點(diǎn)少,放氣量小,薄膜均勻,附著(zhù)力強,抗腐蝕性強,顏色均勻等優(yōu)點(diǎn)。

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